· LPCVD（低压化学气相沉积）

SiNx，片内均匀性：<±5%

· PECVD（等离子增强 化学气相沉积）

SiO₂，SiNx，a-Si(B,P,Ge掺杂)

· ICPCVD（感应耦合 化学气相沉积）

SiO₂，SiNx，SiC(低温、低应力镀膜)

· PEALD（原子层沉积）

Al2O3、HfO2、AlN

· 光学镀膜

SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3

· PVD（溅射沉积）

Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb

· 电子束蒸发

Ti，Al，Ni，Ag，Cu，Cr，Sn，Pt，AuGe

· 热蒸发

Sn，AuSn，Ag，Au，In，Al，Cr，Cu，Ti